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Multi-Element Standard, Elan 6000/5000 Plasma Setup Solution Hg, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS , Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Elan 6000/5000 Plasma Setup Solution Hg, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS , Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2185-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
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Multi-Element Standard, Multi-Element Internal Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Multi-Element Internal Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2175-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
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Multi-Element Standard, GFAAS Mixed Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃/tr HF, Aplicación: Patrones AAS

Descripción: Multi-Element Standard, GFAAS Mixed Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃/tr HF, Aplicación: Patrones AAS
Numero del catalogo: HONCE2203-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-PROOVHG-44CS1Y-100

Multi-Element Standard, Multi element calibration standard 1, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Calibración, Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, Multi element calibration standard 1, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Calibración, Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: PROOVHG-44CS1Y-100
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
Product Image-HEWL5185-5959

Multi-Element Standard, Tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 1 μg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, Tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 1 μg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5185-5959
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: Agilent

Certificados


Product Image-HEWL5190-0465

Multi-Element Standard, ICP-MS stock tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 10 mg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, ICP-MS stock tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 10 mg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5190-0465
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Agilent

Certificados


Product Image-HEWL5188-6524

Multi-Element Standard, PA tuning solution set, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, PA tuning solution set, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5188-6524
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: Agilent
Image Unavailable-PROOVHGV21K100200G

Multi-Element Standard, V21+K Wear metal standard, 100 µg/g, VHG, Aplicación: Patrones ICP , Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, V21+K Wear metal standard, 100 µg/g, VHG, Aplicación: Patrones ICP , Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: PROOVHGV21K100200G
UOM: 1 * 200 g
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
Image Unavailable-PROOVHG-SM16-500

Multi-Element Standard, Major cation mix, 1000 mg/L, VHG, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Industrial, Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, Major cation mix, 1000 mg/L, VHG, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Industrial, Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: PROOVHG-SM16-500
UOM: 1 * 500 mL
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
Image Unavailable-HONCE2163-100ML

Multi-Element Standard, USP 232 Elemental Impurities Solution 2, Fluka™, Fluka™, Matriz: 15% HCl, Aplicación: Patrones ICP-MS , Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, USP 232 Elemental Impurities Solution 2, Fluka™, Fluka™, Matriz: 15% HCl, Aplicación: Patrones ICP-MS , Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2163-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-VARI6610030400

Multi-Element Standard, ICP internal standard, 125 ml, contains 100 mg/L 6Li, Sc, Y, In, Tb and Bi in 5% HNO3, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, ICP internal standard, 125 ml, contains 100 mg/L <sup>6</sup>Li, Sc, Y, In, Tb and Bi in 5% HNO<sub>3</sub>, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: VARI6610030400
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: VARIAN
Image Unavailable-PROOVHG-MMGN1P-100

Matrix Modifiers for GFAA, CRM, Magnesium Nitrate, 1% Magnesium nitrate, 100 ml, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS

Descripción: Matrix Modifiers for GFAA, CRM, Magnesium Nitrate, 1% Magnesium nitrate, 100 ml, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS
Numero del catalogo: PROOVHG-MMGN1P-100
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
Image Unavailable-HACHLCW960

Nitrite standard solution, 5,0 mg/L, Contenido: 1,52 mg/L NO₂-N

Descripción: Nitrite standard solution, 5,0 mg/L, Contenido: 1,52 mg/L NO₂-N
Numero del catalogo: HACHLCW960
UOM: 1 * 500 mL
Proveedor: Hach

New Product


Product Image-ACSDMB56A.K1.5N.L1

Multi-Element Standard, ICP multi-element standard, 100 mg/l, (28 elements in in 5 % HNO₃) Al, Ag, As, B, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Sb, Se, Sr, Ti, Tl, V, Zn, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, ICP multi-element standard, 100 mg/l, (28 elements in in 5 % HNO₃) Al, Ag, As, B, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Sb, Se, Sr, Ti, Tl, V, Zn, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: ACSDMB56A.K1.5N.L1
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: CPACHEM

Certificados


Image Unavailable-HONCE2161-100ML

Multi-Element Standard, Selenium Solution, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Selenium Solution, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2161-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Product Image-HEWL5188-6527

Multi-Element Standard, 6020 Interference check solution B. For use with ICP-MS systems. Contains: 20 ppm of Cr, Co, Cu, Mn, Ni and V, 10 ppm of As, Cd, Se, and Zn, 5 ppm of Ag. Bottle of 100 ml, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP-MS , Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, 6020 Interference check solution B. For use with ICP-MS systems. Contains: 20 ppm of Cr, Co, Cu, Mn, Ni and V, 10 ppm of As, Cd, Se, and Zn, 5 ppm of Ag. Bottle of 100 ml, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP-MS , Patrones ICP
Numero del catalogo: HEWL5188-6527
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: Agilent
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