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Product Image-LEIM11506382

HC PLAN FLUOTAR 40×/0,80 NA; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 0,4 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 40×/0,80 NA; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 0,4 mm
Numero del catalogo: LEIM11506382
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506519

HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 1,2 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 1,2 mm
Numero del catalogo: LEIM11506519
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556036

N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distancia de trabajo: 11,2 mm

Descripción: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distancia de trabajo: 11,2 mm
Numero del catalogo: LEIM11556036
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm

Descripción: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm
Numero del catalogo: LEIM11556061
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556065

HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 0,36 mm

Descripción: HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 0,36 mm
Numero del catalogo: LEIM11556065
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556071

HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 0,92 mm

Descripción: HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 0,92 mm
Numero del catalogo: LEIM11556071
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506184

N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distancia de trabajo: 0,26 mm

Descripción: N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distancia de trabajo: 0,26 mm
Numero del catalogo: LEIM11506184
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506273

HI Plan Phase objective, 40 X/ 0,50 NA, .PH2 for inverted microscope DMi1, 40×, Distancia de trabajo: 2 mm

Descripción: HI Plan Phase objective, 40 X/ 0,50 NA, .PH2 for inverted microscope DMi1, 40×, Distancia de trabajo: 2 mm
Numero del catalogo: LEIM11506273
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3303

HI Plan I 10x/0.22 PH1, 10×, Distancia de trabajo: 7,8 mm

Descripción: HI Plan I 10x/0.22 PH1, 10×, Distancia de trabajo: 7,8 mm
Numero del catalogo: 630-3303
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm

Descripción: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm
Numero del catalogo: LEIM11556511
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506277

HI PLAN 20×/0,40 NA SL; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 0,92 mm

Descripción: HI PLAN 20×/0,40 NA SL; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 0,92 mm
Numero del catalogo: LEIM11506277
UOM: 1 * 1 C/U
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506349

HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distancia de trabajo: 0,14 mm

Descripción: HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distancia de trabajo: 0,14 mm
Numero del catalogo: LEIM11506349
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506220

HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,09 mm

Descripción: HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,09 mm
Numero del catalogo: LEIM11506220
UOM: 1 * 1 C/U
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506525

HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm
Numero del catalogo: LEIM11506525
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506526

HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil PH3; BF, DIC, POL, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil PH3; BF, DIC, POL, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm
Numero del catalogo: LEIM11506526
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11566077

N PLAN EPI 5×/0,12 BD; TL-BF, TL-DIC, TL-P, TL-DF, IL-BF, IL-DIC, IL-P, IL-DF, FLUO contrast, 5×, Distancia de trabajo: 14 mm

Descripción: N PLAN EPI 5×/0,12 BD; TL-BF, TL-DIC, TL-P, TL-DF, IL-BF, IL-DIC, IL-P, IL-DF, FLUO contrast, 5×, Distancia de trabajo: 14 mm
Numero del catalogo: LEIM11566077
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
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