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Product Image-630-3398

Microscopio, Laser microdissection system, Leica®, LMD6

Numero del catalogo: (630-3398)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: Microscopio, Laser microdissection system, Leica®, LMD6
UOM: 1 * 1 SET
Product Image-630-3396

Microscopio, Digital, Leica® THUNDER imager assay package, Leica®

Numero del catalogo: (630-3396)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: Microscopio, Digital, Leica® THUNDER imager assay package, Leica®
UOM: 1 * 1 SET
Product Image-630-3366

HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm

Numero del catalogo: (630-3366)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm
UOM: 1 * 1 C/U
Product Image-630-3368

HI PLAN EPI 5×/0,12 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 5×, Distancia de trabajo: 11,7 mm

Numero del catalogo: (630-3368)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN EPI 5×/0,12 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 5×, Distancia de trabajo: 11,7 mm
UOM: 1 * 1 C/U
Product Image-630-3367

HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Distancia de trabajo: 1,15 mm

Numero del catalogo: (630-3367)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Distancia de trabajo: 1,15 mm
UOM: 1 * 1 C/U
Product Image-630-3370

N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Distancia de trabajo: 0,5 mm

Numero del catalogo: (630-3370)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Distancia de trabajo: 0,5 mm
UOM: 1 * 1 C/U
Product Image-630-3369

N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distancia de trabajo: 0,5 mm

Numero del catalogo: (630-3369)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distancia de trabajo: 0,5 mm
UOM: 1 * 1 C/U
Product Image-LEIM11506220

HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,09 mm

Numero del catalogo: (LEIM11506220)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,09 mm
UOM: 1 * 1 C/U
Product Image-LEIM11506184

N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distancia de trabajo: 0,26 mm

Numero del catalogo: (LEIM11506184)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distancia de trabajo: 0,26 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11556036

N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distancia de trabajo: 11,2 mm

Numero del catalogo: (LEIM11556036)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distancia de trabajo: 11,2 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm

Numero del catalogo: (LEIM11556061)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm

Numero del catalogo: (LEIM11556511)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 12 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11556065

HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 0,36 mm

Numero del catalogo: (LEIM11556065)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 0,36 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11556060

HI PLAN 4×/0,10 NA POL -/ 121; BF, POL, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distancia de trabajo: 18 mm

Numero del catalogo: (LEIM11556060)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN 4×/0,10 NA POL -/ 121; BF, POL, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distancia de trabajo: 18 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11556071

HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 0,92 mm

Numero del catalogo: (LEIM11556071)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 0,92 mm
UOM: 1 * 1 UN
Product Image-LEIM11506217

HC PLAN FL L 63×/0,70 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 63×, Distancia de trabajo: 2,6 - 1,8 mm

Numero del catalogo: (LEIM11506217)
Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descripción: HC PLAN FL L 63×/0,70 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 63×, Distancia de trabajo: 2,6 - 1,8 mm
UOM: 1 * 1 UN
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Este producto se trata de un artículo regulado sometido a normativa que restringe su venta. Si procede, nos pondremos en contacto con usted para solicitarle la licencia o declaración de uso necesaria para poder proceder al suministro del producto.
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