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Multi-Element Standard, V21+K Wear metal standard, 100 µg/g, VHG, Aplicación: Patrones ICP , Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, V21+K Wear metal standard, 100 µg/g, VHG, Aplicación: Patrones ICP , Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: PROOVHGV21K100100G
UOM: 1 * 100 g
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
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Multi-Element Standard, Multi element calibration standard 2, contains traces of HF, Matriz: 20% HCl, Aplicación: Calibración, Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, Multi element calibration standard 2, contains traces of HF, Matriz: 20% HCl, Aplicación: Calibración, Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: PROOVHG-44CS2Z-500
UOM: 1 * 500 mL
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
Image Unavailable-PROOVHGV21K100400G

Multi-Element Standard, V21+K Wear metal standard, 100 µg/g, VHG, Aplicación: Patrones ICP , Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, V21+K Wear metal standard, 100 µg/g, VHG, Aplicación: Patrones ICP , Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: PROOVHGV21K100400G
UOM: 1 * 400 g
Proveedor: LGC Standards PROMOCHEM
Image Unavailable-HONCE2169-100ML

Multi-Element Standard, Alternate Metals I, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Alternate Metals I, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones AAS, Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2169-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE2203-100ML

Multi-Element Standard, GFAAS Mixed Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃/tr HF, Aplicación: Patrones AAS

Descripción: Multi-Element Standard, GFAAS Mixed Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃/tr HF, Aplicación: Patrones AAS
Numero del catalogo: HONCE2203-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Product Image-HEWL5184-3566

Multi-Element Standard, Tuning solution, 5 elements in diluted nitric acid, Li, Y, Ce, Tl, Co, 10 μg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, Tuning solution, 5 elements in diluted nitric acid, Li, Y, Ce, Tl, Co, 10 μg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5184-3566
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: Agilent

Certificados


Product Image-HEWL5190-0465

Multi-Element Standard, ICP-MS stock tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 10 mg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, ICP-MS stock tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 10 mg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5190-0465
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Agilent

Certificados


Product Image-HEWL5188-6564

Multi-Element Standard, ICP-MS stock tuning solution, 5 elements in diluted nitric acid, Li, Y, Ce, Tl, Co, 10 mg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, ICP-MS stock tuning solution, 5 elements in diluted nitric acid, Li, Y, Ce, Tl, Co, 10 mg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5188-6564
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Agilent
Product Image-HEWL5185-5959

Multi-Element Standard, Tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 1 μg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, Tuning solution, 6 elements in diluted nitric acid, Li, Mg, Y, Ce, Tl, Co, 1 μg/L, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5185-5959
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: Agilent

Certificados


Product Image-HEWL5188-6524

Multi-Element Standard, PA tuning solution set, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS

Descripción: Multi-Element Standard, PA tuning solution set, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS
Numero del catalogo: HEWL5188-6524
UOM: 1 * 1 UN
Proveedor: Agilent
Image Unavailable-HONCE2197-100ML

Multi-Element Standard, NexION AFT Multi-Element Solution, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS , Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, NexION AFT Multi-Element Solution, Fluka™, Fluka™, Matriz: 2% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP-MS , Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2197-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE2218-100ML

Multi-Element Standard, ICP Standard (7 Components) , 5 - 1500 mg/L, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, ICP Standard (7 Components) , 5 - 1500 mg/L, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2218-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE2095-100ML

Multi-Element Standard, Mixed Calibration Standard 2, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Mixed Calibration Standard 2, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2095-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE2115-100ML

Multi-Element Standard, Alternate Interference A, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Alternate Interference A, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2115-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE2112-100ML

Multi-Element Standard, EPA 6010 Interference Check Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, EPA 6010 Interference Check Standard, Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2112-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE2131-100ML

Multi-Element Standard, Multi-Element Solution for ICP, (4 components), Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP

Descripción: Multi-Element Standard, Multi-Element Solution for ICP, (4 components), Fluka™, Fluka™, Matriz: 5% HNO₃, Aplicación: Patrones ICP
Numero del catalogo: HONCE2131-100ML
UOM: 1 * 100 mL
Proveedor: Honeywell Chemicals
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