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N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distancia de trabajo: 0,5 mm

Descripción: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distancia de trabajo: 0,5 mm

Numero del catalogo: 630-3369

UOM: 1 * 1 C/U

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

N PLAN 10×/0,25 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 17,7 mm

Descripción: N PLAN 10×/0,25 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distancia de trabajo: 17,7 mm

Numero del catalogo: 630-3189

UOM: 1 * 1 C/U

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

N PLAN L 20×/0,35 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 6,9 mm

Descripción: N PLAN L 20×/0,35 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 6,9 mm

Numero del catalogo: 630-3188

UOM: 1 * 1 C/U

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm

Numero del catalogo: LEIM11506525

UOM: 1 * 1 UN

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 1,2 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distancia de trabajo: 1,2 mm

Numero del catalogo: LEIM11506519

UOM: 1 * 1 UN

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil PH3; BF, DIC, POL, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm

Descripción: HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil PH3; BF, DIC, POL, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distancia de trabajo: 0,18 mm

Numero del catalogo: LEIM11506526

UOM: 1 * 1 UN

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

N PLAN L phase 40×/0,55 NA PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 3,3 - 1,9 mm

Descripción: N PLAN L phase 40×/0,55 NA PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distancia de trabajo: 3,3 - 1,9 mm

Numero del catalogo: 630-3301

UOM: 1 * 1 UN

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

HC PLAN FL L 63×/0,70 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 63×, Distancia de trabajo: 2,6 - 1,8 mm

Descripción: HC PLAN FL L 63×/0,70 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 63×, Distancia de trabajo: 2,6 - 1,8 mm

Numero del catalogo: LEIM11506217

UOM: 1 * 1 UN

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción

Liquidación

HC PLAN FL L 40×/0,60 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 40×, Distancia de trabajo: 3,3 - 1,9 mm

Descripción: HC PLAN FL L 40×/0,60 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 40×, Distancia de trabajo: 3,3 - 1,9 mm

Numero del catalogo: 630-3309

UOM: 1 * 1 UN

Proveedor: LEICA MICROSYSTEMS

Promoción